Semua produk
kata kunci [ metal plasma polishing machine ] pertandingan 56 Produk.
VIDEO
Peralatan Polasi Plasma Kuarsa 220V / 50Hz Untuk Pengolahan Suhu Kamar
| Tekanan Perawatan Plasma: | 0,1-1,0 Pa |
|---|---|
| Sistem kontrol: | Kontrol plc layar sentuh |
| Bahan Ruang Plasma: | Kuarsa |
VIDEO
Suhu kamar Plasma Polisher 500W Plasma Perawatan Mesin Konsumsi energi rendah
| Bahan Ruang Plasma: | Kuarsa |
|---|---|
| Gas plasma: | Argon |
| Suhu Perawatan Plasma: | Suhu Kamar |
VIDEO
Argon Gas Dan RF Generator Plasma Finishing System 500W Mesin Polishing Industri
| Model: | PP001 |
|---|---|
| Tekanan Perawatan Plasma: | 0,1-1,0 Pa |
| Konsumsi Daya: | 500W |
VIDEO
Precision Plasma Etching And Polishing Machine 500W Peralatan Plasma Polishing
| Sistem kontrol: | Kontrol plc layar sentuh |
|---|---|
| Laju aliran gas: | 0-100 Scm |
| Ukuran Ruang Plasma: | 300mm X 300mm X 300mm |
VIDEO
Quartz PLC Control Plasma Treatment Machine 220V / 50Hz Peralatan Penghalusan Plasma
| Sistem kontrol: | Kontrol plc layar sentuh |
|---|---|
| Sumber daya listrik: | 220V/50Hz |
| Bahan Ruang Plasma: | Kuarsa |
VIDEO
ISO9001 0.1 Pa - 1.0 Pa Mesin Penggilingan Plasma Sistem Penggilap Plasma yang dapat disesuaikan
| Konsumsi Daya: | 500KW |
|---|---|
| Model: | PP001 |
| Sumber plasma: | Generator RF |
VIDEO
PLC Control Quartz Plasma Surface Treatment Machine 220V Peralatan Polishing Plasma
| Model: | PP001 |
|---|---|
| Waktu Perawatan Plasma: | 3-5 menit |
| Sumber daya listrik: | 220V/50Hz |
VIDEO
Mesin Pengolahan Plasma suhu kamar 220V / 50Hz Quartz Gas Phase Polishing Device
| Suhu Perawatan Plasma: | Suhu Kamar |
|---|---|
| Bahan Ruang Plasma: | Kuarsa |
| Sumber daya listrik: | 220V/50Hz |
Peralatan polishing plasma stainless steel Permukaan tinggi untuk menghilangkan burr
| Jenis Produk: | Baja tahan karat |
|---|---|
| Cairan Pemoles: | Tidak berbahaya |
| Kekerasan: | Memperbaiki |
Mesin Electropolish Metal Solusi asam Peralatan finishing permukaan
| Kekasaran permukaan: | 0,1-0,5 Mikron |
|---|---|
| Aplikasi: | Finishing Permukaan |
| Tingkat Penghapusan: | 0,1-0,5 Mikron Per Menit |